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产品介绍
离线法生产Low-E玻璃，目前***上普遍采用真空磁控溅射镀膜技术。所谓真空磁控溅射镀膜，是在10-1帕数量级的真空环境中，通入适量的工艺气体（惰性气体Ar或反应气体O2、N2），并保持真空度稳定。将靶材Ag、Si等嵌入阴极，并在与阴极垂直的水平方向置入磁场从而构成磁控靶。以磁控靶为阴极，加上直流或交流电源，在高电压的作用下，工艺气体发生电离，形成等离子体。其中，电子在电场和磁场的共同作用下，进行高速螺旋运动，碰撞气体分子，山东泰安Low-E玻璃厂家产生更多的正离子和电子；正离子在电场的作用下，达到***的能量后撞击阴极靶材，被溅射出的靶材沉积在玻璃基片上形成薄膜。
膜层中主要功能膜层一般为银（Ag）膜，其它膜层为辅助膜，起加强连接、保护主膜等作用。依据Ag膜的不同又可细分为单Ag，双Ag及单Ag改进型等几种不同产品大类，Low-E玻璃有丰富多彩的颜色供选用。
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